次世代冷却技術で世界をリード――SamsungとJohns Hopkins APLが「R&D 100 Award」を受賞

ナノ薄膜熱電材料で効率75％向上、持続可能な冷却技術の新しい未来へ

2025年8月、Samsung ElectronicsとJohns Hopkins University Applied Physics Laboratory (APL) が共同開発した次世代ペルチェ冷却技術が、世界で最も革新的な技術を選ぶ「R&D 100 Awards」を受賞しました。この賞は「工学のノーベル賞」とも呼ばれ、1963年の創設以来、世界中の研究者や企業が憧れる名誉ある表彰です。

今回の受賞技術は、従来のペルチェ素子にナノ工学を応用し、新しい薄膜半導体材料を採用することで効率を約75％向上させた点が大きな特徴です。その成果は2025年5月にNature Communicationsにも掲載されており、学術的にも高い評価を受けています。さらにこの技術を使った冷却システムは、従来の蒸気圧縮式冷蔵庫を上回る効率を実証しました。

Samsung ResearchのJoonhyun Lee副社長は、「この受賞は技術の革新性と実用性が世界的に認められた証です」と述べ、今後も社会に新たな価値をもたらす冷却技術の開発を続ける姿勢を示しています。

ペルチェ冷却は冷媒を必要としない持続可能な固体冷却技術であり、精密な温度制御が可能です。そのため、家庭用冷蔵庫にとどまらず、半導体製造、医療機器、自動車エレクトロニクス、データセンターなど幅広い分野での応用が期待されています。今後、この技術が実用化されれば、エネルギー効率の改善と環境負荷の低減を両立させる大きなインパクトをもたらすでしょう。

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重要キーワード解説

ペルチェ冷却
電流を流すことで一方の面を冷却し、もう一方を加熱する半導体素子を使った冷却方式。冷媒を使わず環境負荷が少ないのが特徴。

R&D 100 Awards
R&D World Magazineが主催する国際的な技術表彰。毎年100の革新的技術を選出し、「イノベーションのアカデミー賞」とも称される。

ナノ薄膜半導体材料
原子レベルで制御された薄膜構造を持つ半導体。熱電変換効率を大幅に高めることが可能で、次世代冷却技術の中核を担う。

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